布魯克Dimension HPI原子力顯微鏡

HPI維度-用于R / D / QA / QC / FA的具有成本效益的精密計量

Dimension®原子力顯微鏡（AFM）系列在為工業(yè)計量應用提供高的可用速度和性能方面享有悠久的聲譽。Dimension HPI和PRO系統(tǒng)是專為大批量生產環(huán)境而設計的，能夠自動測量多種A??FM模式，同時確保大程度的易用性和低的每次測量成本，以進行質量控制，質量保證和故障分析。這些系統(tǒng)使用接觸，敲擊和PeakForceTapping®模式技術，使用戶能夠精確地控制探針與樣品的相互作用，從而提供較長的探針壽命，并具有數千次測量的高精度結果。

•在苛刻的大批量環(huán)境中具有出色的計量性能和功能
•單個AFM平臺中的自動測量和靈活的靈活性
•支持從研發(fā)到量產批量的各種應用
•較可靠的平臺和的支持

適用于工業(yè)的布魯克AFM技術

Dimension平臺在聚合物，半導體，數據存儲，高亮度LED和顯示行業(yè)等領域擁有大的AFM安裝基礎。HPI利用開放訪問平臺，大樣本或多樣本支架以及眾多易于使用的功能，將原子力顯微鏡的強大功能帶給制造商，為您提供，*的解決方案QA / QC / FA中的納米級計量—經濟高效且可靠。

較廣泛的測量類型

從我們*的PeakForce攻絲模式到傳統(tǒng)AFM模式，Dimension HPI系統(tǒng)提供了大范圍和靈活性，可滿足您對各種樣品的特定測量和表征需求

高精度的粗糙度，深度和高度測量

尺寸HPI使用PeakForce攻絲和布魯克專有的高*壽命探針，可提供從亞納米級到高深寬比溝槽的高度可重復且精確的粗糙度，高度和深度測量。

較全面的缺陷審查特征

可以在各種晶圓，基板和滑塊上定位并表征納米級缺陷。PeakForceQNM®可以*地提供組合的3D成像和機械性能信息。

布魯克Dimension HPI原子力顯微鏡快速納米電測量

具有導電AFM（CAFM）的FastScan技術可以以高掃描速率執(zhí)行納米級電流測量，從而大大提高了故障分析測量的效率。通過使用小型磁力顯微鏡（MFM）懸臂，FastScan HPI和PRO使用PeakForce Tapping為MFM應用提供了超過10倍的掃描速率改進，并具有出眾的數據質量。PeakForce KPFM™提供高的空間分辨率和準確的表面電勢測量。PeakForce TUNA™提供敏感的電導率測量。

精確的納米級機械制圖

布魯克*的PeakForce QNM和FastForce Volume™納米級機械制圖模式可以精確制圖機械性能-模量，剛度，附著力，耗散和變形-同時成像樣品的形貌和電性能。利用PeakForce QNM，可以對聚合物，薄膜和納米級缺陷進行無損測量，而這些缺陷是無法通過透射電子或掃描電子顯微鏡技術進行測量的。

Dimension HPI和Dimension PRO平臺在 為工業(yè)計量應用
提供高可用
速度和性能方面享有悠久的聲譽。

配方窗口顯示了基于晶片的布局，用于在晶片內進行精確的用戶定義的XY測量位置。

自動測量多個樣品

AutoMET™全配方軟件提供快速，自動化的計量，簡單的操作和AFM適應性，可輕松捕獲關鍵到高質量的測量值。自動掃描地形，粗糙度，臺階高度，納米機械，納米電氣和其他計量模式。

易于使用，使每個用戶都成為AFM專家。

無論您的AFM經驗水平如何，都可以實現精確的測量。ScanAsyst算法與AutoMET軟件一起可自動連續(xù)監(jiān)控圖像質量并進行必要的參數調整。

簡便的測量配方創(chuàng)建功能使工程師可以通過名稱定義位置，分配任何類型以及在每個位置進行編號測量。

支持從研發(fā)到生產運行的各種應用

• 半導體：裸晶片粗糙度測量和缺陷檢定特性，納米節(jié)點電氣設備的特性和故障隔離以及精確的臺階高度和深度測量。
• 數據存儲：基于生產的較精確，分辨率和高通量的滑塊計量，介質基板粗糙度和缺陷檢查特性，以及出色的分辨率，晶圓，介質和滑塊的電氣和磁故障分析特性。
• 聚合物和薄膜：快速表征一個，數十個或數千個樣品，具有大的結果相關性，納米節(jié)點電氣設備的表征和故障隔離以及同時的形貌和機械性能映射。
• 高亮度LED和太陽能材料：自動化的HB-LED圖案藍寶石（PSS）深度和形狀計量，精確的HB-LED基板粗糙度以及HBLED和太陽能材料的電特性。
• 顯示器制造：用于顯示器開發(fā)的準確的納米級測量，自動測量納米級粗糙度以控制顯示質量以及在數千次測量后精確表征顯示器納米紋理

使用PeakForce QNM成像的多組分聚合物共混物的模量圖。明確存在三種不同的成分：淺藍色成分（A），深藍色成分（B）和紅色/黑色成分（C）。（7μm掃描）。

布魯克的原子力顯微鏡和高性能工業(yè)探頭可為較苛刻的關鍵質量納米級測量提供*且可靠的測量。

致力于保持您的正常運轉，并幫助您應對制造挑戰(zhàn)。

通過提高運營效率降低成本。

Dimension平臺在半導體，數據存儲，HB-LED和聚合物行業(yè)的所有AFM中擁有大的安裝基礎。